6月27日，由湖北省知识产权保护中心主办，海外知识产权纠纷应对指导湖北分中心、湖北光谷实验室、北京隆诺律师事务所联合承办的 “机遇与挑战-企业知识产权创新与海外知识产权保护半导体专场” 活动在武汉成功举办。

会议指出鄂企在海外面临的知识产权风险挑战与日俱增，举办系列专场活动是提升重点产业海外知识产权保护意识和纠纷应对能力的重要举措之一。下一步，省知识产权局将联合相关部门持续加强我省重点出口企业海外知识产权保护，切实发挥知识产权在科技创新领域的基础支撑保障作用，筑牢企业出海知识产权“防护网”，为加快建成中部地区崛起重要战略支点提供支撑。

专场活动发布《湖北省半导体重点出口企业海外知识产权风险分析与应对策略蓝皮书》。专家聚焦湖北省半导体产业的知识产权海外布局和风险分析，分别围绕人才流动中风险管控与战略布局、产业知识产权纠纷特点与典型案例等方面做主题分享，为企业应对海外市场知识产权风险提供应对策略，提升企业参与国际市场竞争的信心和决心。

本次活动线上线下同步进行，全省400余名企业代表参与学习讨论。（周航宇）